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產品名稱:
ITO鍍膜生產線
產品說明:
本系統為高真空ITO 箱式鍍膜設備,主要用于沉積AZO、 ITO 透明導電薄膜,金屬薄膜,半導體薄膜等, 也可用于其他功能性薄膜的沉積。
產品特點:
  • 訂貨信息
  • 主要性能指標
  • 外形尺寸
  • 法蘭尺寸
  • 選配件
    1、雙腔室結構(含工藝腔室及進出樣室);2、最大濺射樣品尺寸約450×250mm;3、磁控濺射靶四支,其中兩支為孿生靶,控制電源為兩套直流電源和一套中頻電源;4、配三路氣體及相應流量控制器;5、配備軸向線性往復運動樣品臺;6、在線膜厚檢測裝置;7、加熱及溫控系統,保證腔室能夠加熱至500℃;
    1、雙腔室結構(含工藝腔室及進出樣室);2、最大濺射樣品尺寸約450×250mm;3、磁控濺射靶四支,其中兩支為孿生靶,控制電源為兩套直流電源和一套中頻電源;4、配三路氣體及相應流量控制器;5、配備軸向線性往復運動樣品臺;6、在線膜厚檢測裝置;7、加熱及溫控系統,保證腔室能夠加熱至500℃;
    1、雙腔室結構(含工藝腔室及進出樣室);2、最大濺射樣品尺寸約450×250mm;3、磁控濺射靶四支,其中兩支為孿生靶,控制電源為兩套直流電源和一套中頻電源;4、配三路氣體及相應流量控制器;5、配備軸向線性往復運動樣品臺;6、在線膜厚檢測裝置;7、加熱及溫控系統,保證腔室能夠加熱至500℃;
    1、雙腔室結構(含工藝腔室及進出樣室);2、最大濺射樣品尺寸約450×250mm;3、磁控濺射靶四支,其中兩支為孿生靶,控制電源為兩套直流電源和一套中頻電源;4、配三路氣體及相應流量控制器;5、配備軸向線性往復運動樣品臺;6、在線膜厚檢測裝置;7、加熱及溫控系統,保證腔室能夠加熱至500℃;
    1、雙腔室結構(含工藝腔室及進出樣室);2、最大濺射樣品尺寸約450×250mm;3、磁控濺射靶四支,其中兩支為孿生靶,控制電源為兩套直流電源和一套中頻電源;4、配三路氣體及相應流量控制器;5、配備軸向線性往復運動樣品臺;6、在線膜厚檢測裝置;7、加熱及溫控系統,保證腔室能夠加熱至500℃;
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